Вода является одним из важнейших компонентов в производстве микроэлектронных изделий. На производство одного микрочипа весом 2 грамма требуется около 32 литров воды. Она используется для приготовления химических растворов, травления изделий и других операций в технологическом процессе, а также для промывки кристаллов на пластине.
«Ангстрем-Т» завершила пусконаладочные работы и запустила в опытную эксплуатацию станцию подготовки деионизованной воды (СДВ) для обеспечения производственных процессов.
«Мы завершили очередной большой этап на пути подготовки нового завода микроэлектроники к запуску. В декабре заработала автономная электростанция, а сегодня мы вводим в эксплуатацию станцию сверхчистой воды. Она обеспечит подачу 100 кубометров воды в час, необходимых для основного производства» - отметил генеральный директор АО «Ангстрем-Т» Анатолий Сухопаров.
К качеству воды, применяемой в микроэлектронной промышленности, предъявляются чрезвычайно высокие требования. Современные стандарты предусматривают четыре типа воды, в зависимости от размера полупроводниковых микроэлементов, в производстве которых она используется. На СДВ «Ангстрем-Т» производится сверхчистая вода (СЧВ) типа Е-1 – ультрачистая вода с резервом при переходе с основной технологии 90 – 130 нм. на более современные с топологическими размерами 65 нм. и ниже.
С помощью СДВ из грунтовой воды удаляются практически все неорганические, органические примеси и ионы. Степень удаления примесей из артезианской воды составляет от 99,9996 (фтор) до 99, 999996% (сульфаты). В процессе очистки применяются передовые мембранные и ионообменные технологии. Для подачи СЧВ к оборудованию, изготавливающему микрочипы, вода проходит через несколько блоков: предочистки, обессоливания, глубокой доочистки (деионизации), дегазации, ультрафиолетовой обработки, ионного обмена и ультрафильтрации.
Партнером «Ангстрем-Т» в создании СДВ стала компания с мировым именем Hager+Elsasser (H+E). С момента основания в 1932 году, H+E разработала решения в области физико-химической подготовки и очистки воды для более 4 тысяч предприятий в разных странах и отраслях промышленности.
«Создание станции сверхчистой воды для новой фабрики - один из приоритетных проектов H+E в Европе. Процесс от монтажа до пуско-наладочных работ и запуска занял больше года, мы привлекли наших лучших специалистов для работы над станцией. Качество деионизованной воды – ключевой фактор в производстве полупроводниковых изделий, так как 30% операций приходятся на отмывку поверхностей кремниевых пластин» - отметил директор российского направления компании H+E Ойген Мартенс.
Проектирование СДВ началось в апреле 2013 года. Общая стоимость работ составила 11,5 миллионов евро.
